輝光放電：

當(dāng)電壓繼續(xù)上升時(shí)，離子與陰極之間以及電子與氣體分子之間的碰撞變得重要起來。在碰撞趨于頻繁的同期，外電路轉(zhuǎn)移給電子與離子的能量亦在逐步增多。一方面，離子針對陰極的碰撞將使其產(chǎn)生二次電子的發(fā)射，而電子能量亦增多到足夠高的水平，它們與氣體分子的碰撞起始引起后者出現(xiàn)電離，如圖(a)所示。這些過程均產(chǎn)生新的離子和電子，即碰撞過程使得離子和電子的數(shù)目快速增多。此時(shí)，隨著放電電流的快速增多，電壓的變化卻不大。這一放電周期叫作為湯生放電。

在湯生放電周期的后期，放電起始進(jìn)入電暈放電周期。此時(shí)，在電場強(qiáng)度較高的電極尖端部位起始顯現(xiàn)有些跳躍的電暈光斑。因此呢，這一周期叫作為電暈放電。

在湯生放電周期之后，氣體會忽然出現(xiàn)放電擊穿現(xiàn)象。此時(shí)，氣體起始具備了相當(dāng)?shù)膶?dǎo)電能力，咱們將這種具備了必定的導(dǎo)電能力的氣體叫作為等離子體。此時(shí)，電路中的電流大幅度增多，同期放電電壓卻有所下降。這是因?yàn)?/span>此時(shí)的氣體被擊穿，因而氣體的電阻將隨著氣體電離度的增多而明顯下降，放電區(qū)由原來只集中于陰極邊緣和不規(guī)則處變成向全部電極表面擴(kuò)展。在這一周期，氣體中導(dǎo)電粒子的數(shù)目海量增多，粒子碰撞過程伴同的能量轉(zhuǎn)移亦足夠地大，因此呢放電氣體會發(fā)出顯著的輝光。

電流的繼續(xù)增多將使得輝光區(qū)域擴(kuò)展到全部放電長度上，同期，輝光的亮度持續(xù)加強(qiáng)。當(dāng)輝光區(qū)域充滿了兩極之間的全部空間之后，在放電電流繼續(xù)增多的同期，放電電壓又開始提升。以上的兩個(gè)區(qū)別的輝光放電周期常被叫作為正常輝光放電和反常輝光放電周期。反常輝光放電是通常薄膜濺射或其他薄膜制備辦法經(jīng)常采用的放電形式，由于它能夠供給面積很強(qiáng)、分布較為均勻的等離子體，有利于實(shí)現(xiàn)大面積的均勻?yàn)R射和薄膜沉積。

磁控濺射：

平面磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形。其工作原理如下圖所示。電子在電場功效下，加速飛向基片的過程中與氫原子出現(xiàn)碰撞。若電子擁有足夠的能量(約為30eV)。時(shí)，則電離出Ar+并產(chǎn)生電子。電子飛向基片，Ar+在電場功效下加速飛向陰極濺射靶并以高能量轟擊靶表面，使靶材出現(xiàn)濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子(或分子)沉積在基片上形成薄膜。二次電子e1在加速飛向基片時(shí)受磁場B的洛侖茲力功效，以擺線和螺旋線狀的復(fù)合形式在靶表面作圓周運(yùn)動。該電子e1的運(yùn)動路徑不僅很長，況且被電磁場捆綁在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)。在該區(qū)中電離出海量的Ar+用來轟擊靶材，因此呢磁控濺射擁有沉積速率高的特點(diǎn)。隨著碰撞次數(shù)的增多，電子e1的能量逐步降低，同期，e1逐步遠(yuǎn)離靶面。低能電子e1將如圖中e3那樣沿著磁力線來回振蕩，待電子能量將耗盡時(shí)，在電場E的功效下最后沉積在基片上。因?yàn)?/span>該電子的能量很低，傳給基片的能量很小，使基片溫升較低。在磁極軸線處電場與磁場平行，電子e2將直接飛向基片。然則，在磁控濺射安裝中，磁極軸線處離子密度很低，因此e2類電子很少，對基片溫升功效不大。

磁控濺射工作原理圖

磁控濺射的基本原理便是以磁場改變電子運(yùn)動方向，捆綁和延長電子的運(yùn)動路徑，加強(qiáng)電子的電離概率和有效地利用了電子的能量。因此呢，在形成高密度等離子體的反常輝光放電中，正離子對靶材轟擊所導(dǎo)致的靶材濺射更加有效，同期受正交電磁場的捆綁的電子只能在其能量將要耗盡時(shí)才可沉積在基片上。這便是磁控濺射擁有“低溫”、“高速”兩大特點(diǎn)的機(jī)理。

磁控濺射的應(yīng)用：

磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)：

 （1）操作易控。鍍膜過程，只要保持工作壓強(qiáng)、電功率等濺射要求相對穩(wěn)定，就能得到比較穩(wěn)定的沉積速率。

（2）沉積速率高。在沉積大部分的金屬薄膜，尤其是沉積高熔點(diǎn)的金屬和氧化物薄膜時(shí)，如濺射鎢、鋁薄膜和反應(yīng)濺射TiO2、ZrO2薄膜，擁有很高的沉積率。

 （3）基板低溫性。相對二極濺射或熱蒸發(fā)，磁控濺射對基板加熱少了，這一點(diǎn)對實(shí)現(xiàn)織物的上濺射相當(dāng)有利。

 （4）膜的牢靠性好。濺射薄膜與基板有著極好的附著力，機(jī)械強(qiáng)度亦得到了改善。

 （5）成膜致密、均勻。濺射的薄膜聚集密度廣泛加強(qiáng)了。從顯微照片看，濺射的薄膜表面微觀形貌比較精致細(xì)密，況且非常均勻。

（6）濺射的薄膜均擁有優(yōu)異的性能。如濺射的金屬膜一般能得到良好的光學(xué)性能、電學(xué)性能及某些特殊性能。

 （7）易于組織大批量生產(chǎn)。磁控源能夠按照需求進(jìn)行擴(kuò)大，因此呢大面積鍍膜是容易實(shí)現(xiàn)的。再加上濺射可連續(xù)工作，鍍膜過程容易自動掌控，因此呢工業(yè)上流水線作業(yè)完全作為可能。

（8）工藝環(huán)保。傳統(tǒng)的濕法電鍍會產(chǎn)生廢液、廢渣、廢氣，對環(huán)境導(dǎo)致嚴(yán)重的污染。不產(chǎn)生環(huán)境污染、生產(chǎn)效率高的磁控濺射鍍膜法則可較好處理這一困難。

磁控濺射應(yīng)用：

磁控濺射日前是一種應(yīng)用非常廣泛的薄膜沉積技術(shù),濺射技術(shù)上的持續(xù)發(fā)展和對新功能薄膜的探索科研,使磁控濺射應(yīng)用延伸到許多生產(chǎn)和研究行業(yè)。

（1）在微電子行業(yè)做為一種非熱式鍍膜技術(shù),重點(diǎn)應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)生長困難及不適用的材料薄膜沉積,況且能夠得到大面積非常均勻的薄膜。包含歐姆接觸的Al、Cu、Au、W、Ti等金屬電極薄膜及可用于柵絕緣層或擴(kuò)散勢壘層的TiN、Ta2O5、TiO、Al2O3、ZrO2、AlN等介質(zhì)薄膜沉積。

（2）磁控濺射技術(shù)在光學(xué)薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面亦得到應(yīng)用。在透明導(dǎo)電玻璃在玻璃基片或柔性襯底上,濺射制備SiO2薄膜和摻雜ZnO或InSn氧化物(ITO)薄膜，使可見光范圍內(nèi)平均光透過率在90%以上。

（3）在現(xiàn)代機(jī)械加工工業(yè)中,利用磁控濺射技術(shù)制作表面功能膜、超

硬膜,自潤滑薄膜,能有效的加強(qiáng)表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能,從而大幅度地加強(qiáng)涂層制品的運(yùn)用壽命。

磁控濺射除以上已被海量應(yīng)用的行業(yè),還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜科研方面發(fā)揮重要功效。

磁控濺射技術(shù)因?yàn)?/span>其明顯的優(yōu)點(diǎn)作為工業(yè)鍍膜重點(diǎn)技術(shù)之一。在將來的科研中，新技術(shù)向工業(yè)行業(yè)的推廣、磁控濺射技術(shù)與計(jì)算機(jī)的結(jié)合已作為一個(gè)科研方向，怎樣利用計(jì)算機(jī)來掌控精確鍍膜過程，利用計(jì)算機(jī)來模擬鍍膜時(shí)的磁場、溫度場、以及氣流分布，必將能給濺射鍍膜過程供給靠譜的數(shù)據(jù)支持，亦是經(jīng)濟(jì)有效的辦法。

光學(xué)鍍膜典型舉例1：寶石鍍膜

“鍍膜處理”是一種表面處理技術(shù)，用沉淀技術(shù)、噴鍍技術(shù)等在寶石表面鋪設(shè)多層分子或原子膜，能夠改善其外觀面貌。此刻的“鍍膜處理”技術(shù)已然較為成熟，在珠寶玉石中亦顯現(xiàn)的較多，不少商家亦利用這一點(diǎn)包裝出非常多“珠寶”詐騙不認(rèn)識行情的消費(fèi)者。

鍍膜托帕石

鍍膜水晶

照片源自：米玲麗，2020

咱們常說的“水色氣息”便是指在無色托帕石表面“鍍膜處理”所產(chǎn)生的五彩斑斕的視覺效果。

“鍍膜處理”重點(diǎn)改變寶石的那些特征

“鍍膜處理”重點(diǎn)是為了改善寶石的顏色和表面光潔度，加強(qiáng)寶玉石的光澤。在寶石表面鍍上有色膜，能夠直接改善或加強(qiáng)寶玉石的顏色，同期薄膜層的干涉功效亦能夠使寶石產(chǎn)生美麗的顏色。另外，膜層亦會掩蓋寶石表面凹坑、裂隙、擦痕等缺陷，加強(qiáng)表面光潔度。

那些寶石品質(zhì)頻繁運(yùn)用“鍍膜處理”

非常多種寶玉石都能夠用“鍍膜處理”的方式來改善其顏色或光澤，平常的有托帕石、坦桑石、水晶、碧璽等。

如上圖中這5顆0.39-0.82克拉的坦桑石在反射光下觀察到的下腰刻面比亭部主刻面的未涂層部分表示出更高的光澤。連接處和有些小的缺口區(qū)域已磨損，露出下面坦桑石不太飽和的紫色。

照片源自：GIA

還有法國寶石學(xué)實(shí)驗(yàn)室（LFG）看到的第1個(gè)用彩色薄膜覆蓋的合成云紋石的例子。在顯微鏡下，這些薄片表示出金屬光澤，粉紅色似乎集中在表面。因?yàn)?/span>這層薄膜的劃痕，觀察到顏色不均勻。

照片源自：GIA

在水晶的表面鍍上一層彩膜，使水晶產(chǎn)生暈彩效應(yīng)，這般看起來更好看，商家亦就有了更大的炒作噱頭。

鍍膜水晶

照片源自：Google

眾所周知，碧璽被叫作為“落入凡間的彩虹”，而有些不良商家為了能夠節(jié)約成本，經(jīng)常會將有些淺色或無色的碧璽進(jìn)行鍍膜處理，以此來牟取暴利！鍍了膜的碧璽表面不會有太自然的暈彩效應(yīng)，跟天然碧璽比起來相差甚遠(yuǎn)。

托帕石的“鍍膜處理”工藝已很成熟，鍍膜后的托帕石可產(chǎn)生紅、黃、綠、紫、藍(lán)等各樣各樣的顏色，鍍膜托帕石日前分三代制品。

照片源自：李瑞璐,2011

第1代

第1代制品技術(shù)為直接噴鍍氧化物薄膜法，即在低溫要求下，將金屬氧化物噴鍍在托帕石基體上，因?yàn)?/span>膜層折射率與托帕石基體折射率區(qū)別，膜層與托帕石相互功效產(chǎn)生光學(xué)干涉現(xiàn)象，使得鍵膜托帕石呈現(xiàn)帶有綠色和紫色的多彩色。

照片源自：李瑞璐,2011

第二代

第二代鍍膜制品技術(shù)較直接鍍膜更為精細(xì)，膜層為交替層結(jié)構(gòu)，會產(chǎn)生的光學(xué)干涉濾波對光有選取吸收性，使鍍膜托帕石產(chǎn)生顏色。此類鍍膜托帕石用入射光觀察，鍵膜表面可呈現(xiàn)出金黃色。

第三代

第三代制品亦叫作為TCF托帕石，該“TCF”技術(shù)指的是“熱熔”技術(shù)(Thermalcolorfusion)，是近年來興起的一種新型的寶石優(yōu)化處理技術(shù)，它是在原鍍膜工藝的基本上增多了擴(kuò)散處理技術(shù)。

照片源自：王海燕,2009

即先將氧化物或和金屬單質(zhì)或摻雜劑噴鍍或沉積在托帕石基體表面，而后進(jìn)行高溫熔結(jié)處理，因此TCF托帕石的耐久性亦很強(qiáng)，并且TCF技術(shù)使得托帕石制品的顏色非常豐富，并且鮮艷逼真，柔和自然。TCF托帕石的缺點(diǎn)是粒度太小，不足1克拉。

快速鑒別“鍍膜處理”

通常來講，肉眼及放大觀察會發(fā)掘“水色氣息”表面光澤反常，針劃會留下痕跡，膜層脫落。借用有些常規(guī)的鑒定儀器會發(fā)掘寶石折射率、多色性、吸收光譜反常。另一，對包鑲首飾要格外留意，必定要取下后觀察。

照片源自：米玲麗，2020

但肉眼與簡單儀器鑒定難度很強(qiáng)，要得到科學(xué)的結(jié)果，必定要找經(jīng)過專業(yè)的顯微鏡觀察、經(jīng)過儀器分析等才可得出準(zhǔn)確結(jié)論。

光學(xué)鍍膜典型舉例2：光學(xué)濾光片

濾光片核心參數(shù)

中心波長

中心波長(CWL)一般用于暗示帶通濾光片的峰值透射率，或是陷波濾光片的峰值反射率。然而，這個(gè)術(shù)語常被誤用 -CWL實(shí)質(zhì)上定義為在峰值透射率為50%的波長之間的中點(diǎn)，叫作為半峰 全寬(FWHM)。干涉濾光片的峰值則一般不會位置于波長中點(diǎn)。請參閱圖1關(guān)于CWL和FWHM的說明。

帶寬

帶寬是一個(gè)波長范圍，用于暗示頻譜經(jīng)過入射能量穿過濾光片的特定部分。帶寬又叫作為FWHM（圖1）。

圖 1: 中心波長和半峰全寬說明 

截止范圍

阻斷范圍是用于暗示經(jīng)過濾光片衰減的能量光譜區(qū)域的波長間隔（圖2）。阻斷程度一般會在光密度中指定。

圖 2: 截止范圍說明 

光密度

光密度(OD)描述濾光片阻斷規(guī)格，并且與穿過的能量透射量相關(guān)（方程式1–2）。高光密度值暗示非常低的透射率，低光密度則暗示高透射率。圖3描述了三種區(qū)別的光密度：OD 1.0，OD 1.3和OD 1.5表示越高的OD值的透射率越低。

圖 3: 光密度說明

二向色性濾光片

二向色性濾光片是用于取決于波長透射率或反射光的濾光片類型；特定波長范圍透射的光則鑒于區(qū)別范圍的光線反射或吸收（圖4）。二向色性濾光片常用于長波通和短波通應(yīng)用。

圖 4: 二向色性濾光片鍍膜說明 

初始波長

初始波長是用于暗示在長波通濾光片中透射率增多至50%波長的術(shù)語。初始波長由圖5中的λcut-on初始暗示。

圖 5: 初始波長說明

光學(xué)濾光片制造技術(shù)

吸收性和二向色性濾光片

范圍廣泛的可分成兩大類：吸收性和二向色性。兩者的區(qū)別不在于它過濾什么，而是怎樣濾光。吸收性濾光片的光線阻斷以玻璃基片的吸收特性為基本。換句話說，被阻斷的光線不會反射回濾光片；相反的，光線被它吸收且包括在濾光片內(nèi)。在系統(tǒng)內(nèi)多余的光線形成噪音的問題時(shí)，吸收性濾光片是理想的選取。吸收性濾光片亦擁有方向不敏銳的額外功能；光線可從各樣方向入射濾光片且濾光片將保持其透射和吸收特性。

相反的，二向色性濾光片的運(yùn)作是反射多余的波長并透射所需的頻譜部分。在有些應(yīng)用中，這是一個(gè)需要的效果，由于光能夠經(jīng)過波長掰開為兩個(gè)源自。這可經(jīng)過增多單層或多層區(qū)別折射指數(shù)的材料完成干涉光波性質(zhì)來實(shí)現(xiàn)。在干涉濾光片，光從較低折射率材料的移動將反射高折射率材料；僅有特定方向和波長的光將積極干涉?zhèn)魅牍馐⒋┻^材料，而其他所有的光線將相消干涉并反射材料（圖7）。其他相關(guān)干擾的信息，請參閱“光學(xué)101：1級的理論基本”。

圖 7: 在玻璃基片上交替的高與低指標(biāo)材料的多層沉積

與吸收性濾光片區(qū)別，二向色性濾光片擁有極高的方向敏銳。當(dāng)用于任何方向的設(shè)計(jì)用途之外時(shí)，二向色性濾光片沒法滿足zui初標(biāo)示的透射率和波長規(guī)格。經(jīng)過二向色性濾光片加強(qiáng)入射角將使它移向較短的波長（即對藍(lán)波長）；降低方向則會移向較長的波長（即對紅波長）。 

探索二向色性帶通濾光片

帶通濾光片用于廣泛的行業(yè)，能夠是二向色性或彩色基片。二向色性帶通濾光片是由于兩種區(qū)別的技術(shù)制造的：傳統(tǒng)和加硬濺射法，或鍍加硬膜。這兩種技術(shù)經(jīng)過在玻璃基片上交替的高與低折射率材料的多層沉積實(shí)現(xiàn)其獨(dú)特的透射率和反射特性。事實(shí)上，按照應(yīng)用的區(qū)別，在特定基片上每面可能有超過100層材料沉積。

傳統(tǒng)鍍膜濾光片和加硬濺射法濾光片之間的差別是基片層數(shù)。在傳統(tǒng)鍍膜帶通濾光片，區(qū)別的指標(biāo)材料層沉積在多個(gè)基片上而后再夾在一塊。例如，假設(shè)圖7中的照片重復(fù)疊加乃至超過100倍。這個(gè)技術(shù)引起降低透射率的厚濾光片。透射的減少是因?yàn)?/span>入射光穿過并經(jīng)過數(shù)個(gè)基片層被吸收和/或反射所引起的。相反的，在加硬濺射法帶通濾光片，區(qū)別的指標(biāo)材料只沉積在單個(gè)基片上 圖8）。這個(gè)技術(shù)引起高透射率的薄濾光片。相關(guān)制造技術(shù)的其他信息，請參閱“光學(xué)鍍膜簡介”。請查看硬鍍膜的好處，幫忙您選取適合應(yīng)用的濾光片。

圖 8: 傳統(tǒng)濾光片（左）和加硬濺射法濾光片（右）

光學(xué)鍍膜技術(shù)和裝備

光學(xué)薄膜是現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)最重要的構(gòu)成部分，在光通信、光學(xué)表示、激光加工、激光核聚變等高科技及產(chǎn)業(yè)行業(yè)已然作為核心元器件，其技術(shù)突破常常作為現(xiàn)代光學(xué)及光電系統(tǒng)加速發(fā)展的主因。

光學(xué)薄膜的技術(shù)性能和靠譜性，直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、靠譜性及成本。如圖1是光通訊技術(shù)中運(yùn)用窄帶濾光片調(diào)制區(qū)別的通訊通道示意圖。圖 2是激光核聚變系統(tǒng)中海量運(yùn)用到的薄膜元器件。

圖1 光通訊系統(tǒng)中經(jīng)過WDM濾光片系統(tǒng)調(diào)控區(qū)別波長示意圖

圖2 美國NIF高功率激光系統(tǒng)中的光學(xué)結(jié)構(gòu)示意圖，其中海量運(yùn)用到傳輸鏡、偏振膜等光學(xué)薄膜元器件

隨著行業(yè)的持續(xù)發(fā)展，精細(xì)光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)薄膜的光譜掌控能力和精度需求越來越高，而消費(fèi)電子對光學(xué)薄膜器件的需要更強(qiáng)調(diào)超大的量產(chǎn)規(guī)模和普通公眾的易用和舒適性。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實(shí)現(xiàn)了長足的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備行業(yè)的重點(diǎn)技術(shù)發(fā)展包含：1

間歇式直接光控(intermittent measuring method)：以Leybold Optics機(jī)構(gòu)的OMS5000系統(tǒng)為表率，光學(xué)鍍膜過程中越來越多地運(yùn)用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程制品片實(shí)現(xiàn)直接監(jiān)控。相針對間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實(shí)質(zhì)制品上的薄膜厚度分布誤差，能夠進(jìn)一步加強(qiáng)制品良率并減少了工藝調(diào)試時(shí)間。

圖3 Leybold Optics 機(jī)構(gòu)OMS5000的間歇式直接光控系統(tǒng)

漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備(Rguate filter and Coater):已然有海量科研工作已然證實(shí)Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)經(jīng)過加強(qiáng)調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計(jì)出非常繁雜的光譜性能，(部分)消除了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，亦能夠增多了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。

漢諾威激光工程中心的數(shù)據(jù)表示(圖4)，(準(zhǔn))Rugate薄膜結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的高低折射率光學(xué)薄膜結(jié)構(gòu)相比，能夠擁有更高的抗激光損害閾值。如Rugate Filter 設(shè)計(jì)，其1064 nm 10 ns 1000發(fā)零損害幾率能夠做到100 J/cm2以上。

圖4 高低折射率結(jié)構(gòu)和(準(zhǔn))Rugate薄膜結(jié)構(gòu)的抗激光損害閾值對比測試結(jié)果

圖5所示為德國CEC機(jī)構(gòu)研發(fā)的靶面掃描共濺系統(tǒng)。經(jīng)過在離子束濺射鍍膜過程中，精確掃描兩種材料拼接而成的混合濺射靶，能夠實(shí)現(xiàn)折射率的漸變結(jié)構(gòu)，高精度制備(準(zhǔn))Rugate復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜，得到比高低折射率薄膜結(jié)構(gòu)更繁雜的光譜性能和更優(yōu)異的附著力、應(yīng)力等理學(xué)性能。

圖5德國CEC機(jī)構(gòu)靶面掃描共濺系統(tǒng)

磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)(Magnetron Sputtering)

以Leybold Helios和Shincron RAS為表率，磁控濺射技術(shù)及裝備在精細(xì)光學(xué)行業(yè)和消費(fèi)光電子薄膜行業(yè)占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程掌控簡單，粒子能量高，得到的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。

圖6是Helios的基本結(jié)構(gòu)和原理，其采用非常緊湊的板式開合結(jié)構(gòu)，真空室空間利用率非常高，整體結(jié)構(gòu)亦非常緊湊。其采用平面雙靶磁控濺射陰極和等離子體源一起實(shí)現(xiàn)化合物薄膜的快速沉積過程，能夠用于介質(zhì)干涉濾光片(氧化物、氮化物)、共濺射(摻雜，混合折射率薄膜)、金屬膜 (Cr,Ag,Al…)及金屬介質(zhì)干涉濾光片。其裝卡系統(tǒng)能夠實(shí)現(xiàn)真空室處在真空狀態(tài)下快速進(jìn)出制品，為全部系統(tǒng)的穩(wěn)定性奠定了重要基本?？偟?span style="color: green;">來講，該設(shè)備非常適合應(yīng)用于中小批量的精細(xì)光學(xué)元件鍍膜。

圖6 LeyboldOpitcs Helios磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)(上)，基本結(jié)構(gòu)與原理圖(下)

光學(xué)鍍膜中平常的不良分析與改善對策

鍍膜制品的平常問題，部分是鍍膜工序的本身導(dǎo)致的，部分是前工程遺留的問題，鍍膜終的品質(zhì)是全部光學(xué)零件加工的（尤其是拋光、清洗）的綜合反映，針對顯現(xiàn)鍍膜不良時(shí)必須綜合思慮，才可真正找到不良產(chǎn)生的原由，對策改善才可取得成效。

現(xiàn)象：鏡片膜層表面或內(nèi)部有有些點(diǎn)子（不是膜料點(diǎn)）有些能夠擦除，有的不能擦除。并且會有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。

產(chǎn)生原由：

1、真空室臟，在起始抽真空時(shí)的空氣渦流將真空室底板、護(hù)板的臟灰?guī)У界R片上，形成灰點(diǎn)層。（膜內(nèi)，不可擦除，會有點(diǎn)狀脫膜）

2、鏡圈或碟片臟，有浮點(diǎn)灰塵，在離子束功效下附著到了鏡片上形成灰點(diǎn)層。（膜內(nèi)，不可擦除，會有點(diǎn)狀脫膜）

3、鏡片上傘時(shí)就有灰塵點(diǎn)，上傘時(shí)無檢測挑選。（膜內(nèi)，不可擦除，會有點(diǎn)狀脫膜）

4、鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的重點(diǎn)成因，尤其是當(dāng)鏡片熱的時(shí)候，更易吸附灰塵，況且難以擦除。（膜外）

5、真空室充氣口環(huán)境臟、起始充氣量過大、充氣過濾器臟，充氣時(shí)鏡片溫度過高亦是導(dǎo)致鏡片膜外灰塵點(diǎn)不良的原由。（膜外）

6、 作業(yè)員人為帶來的灰塵污染（膜內(nèi)膜外）

7、 工作環(huán)境中灰塵太多

改善思路：杜絕灰塵源

改善對策：

1、工作環(huán)境改造潔凈車間，嚴(yán)格按潔凈車間規(guī)范實(shí)施。

2、盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡可能利用潔凈工作臺。

3、 真空室周期打掃，保持清潔。

 膜外白霧

現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有有些淡淡的白霧，用丙酮或混合液擦拭，會有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭，能夠擦掉或減輕，（又叫作：可擦拭壓克）

分析：膜外白霧的成因較為繁雜，可能的成因有：

①、膜結(jié)構(gòu)問題：外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙；

②、蒸發(fā)角過大，膜結(jié)構(gòu)粗糙。

③、溫差：鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過大

④、潮氣；鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣

⑤、真空室內(nèi)Polycold解凍時(shí)水汽過重

⑥、蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻

⑦、膜與膜之間的應(yīng)力

改善思路：膜外白霧成因非常多，但各有些特征，盡可能對癥下藥。重點(diǎn)思路，一是把膜做的致密光滑些不易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對象。

改善對策：

1、改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，很難吸附。改善鏡片出罩時(shí)的環(huán)境（干燥、清潔）

2、降低出罩時(shí)的鏡片溫度（延長在真空室的冷卻時(shí)間）減少溫差、降低應(yīng)力。

3、改善充氧（加大），改善膜結(jié)構(gòu)。

4、適當(dāng)降低蒸發(fā)速率，改善柱狀結(jié)構(gòu)

5、離子輔助鍍膜，改善膜結(jié)構(gòu)

6、加上polycold解凍時(shí)的小充氣閥（其功能是即時(shí)帶走水汽）

7、從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角。

8、改善基片表面粗糙度。

9、重視polycold解凍時(shí)的真空度。

膜內(nèi)白霧

白霧形成在膜內(nèi)，沒法用擦拭辦法祛除。

可能的成因：

①、基片臟，附著前工程的殘留物

②、鏡片表面腐蝕污染

③、膜料與膜料之間、膜料與基片之間的不匹配。

④、氧化物充氧不足。

⑤、一層氧化鋯膜料，可能對某些基片產(chǎn)生白暈現(xiàn)象

⑥、基片進(jìn)罩前（洗凈后）受潮氣污染

⑦、洗凈或擦拭不良，洗凈痕跡、擦拭痕跡

⑧、真空室臟、水氣過重

⑨、環(huán)境濕度大

改善思路：基片本身的問題可能是重點(diǎn)的，鍍膜是盡可能彌補(bǔ)，鍍膜本身的可能是膜料匹配問題。

改善對策：

1、改進(jìn)膜系，層不消氧化鋯。

2、盡可能減少真空室開門時(shí)間，罩與罩之間在短期內(nèi)做好真空室的清潔、鍍膜準(zhǔn)備工作。

3、真空室在更換護(hù)板、清潔后，能空罩抽真空烘烤一下，更換的護(hù)板等真空室部件必須干燥、干凈。

4、改善環(huán)境

5、妥善守護(hù)進(jìn)罩前在傘片上的鏡片，免受污染。

6、改善洗凈、擦拭效果。

7、改善膜匹配（思慮層用Al2O3）

8、改善膜充氧和蒸發(fā)速率（降低）

9、加快前工程的流程。前工程對已加工光面的守護(hù)加強(qiáng)。

十、拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不可有拋光粉或其他雜質(zhì)附著干結(jié)。

PVD 鍍膜材料——靶材知識

PVD 鍍膜材料概述

PVD 鍍膜材料重點(diǎn)用以制備各樣擁有特定功能的薄膜材料，應(yīng)用行業(yè)包含平板表示、半導(dǎo)體、太陽能電池、光磁記錄媒介、 光學(xué)元器件、 節(jié)能玻璃、 LED、工具改性、高檔裝飾用品等。

（1）薄膜材料制備技術(shù)概述

薄膜材料生長于基板材料（如屏顯玻璃、光學(xué)玻璃等）之上，通常由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經(jīng)過鍍膜后形成，擁有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、守護(hù)、防水防污、防靜電、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復(fù)合等功能，并能夠加強(qiáng)制品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長制品壽命、改善原有性能等。

日前，薄膜材料制備技術(shù)重點(diǎn)包含：

①PVD技術(shù)

PVD 技術(shù)是制備薄膜材料的重點(diǎn)技術(shù)之一，指在真空要求下采用理學(xué)辦法，將某種物質(zhì)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并經(jīng)過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積擁有某種特殊功能的薄膜材料的技術(shù)。在PVD 技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統(tǒng)叫作為 PVD 鍍膜材料。

經(jīng)太多年發(fā)展，PVD 技術(shù)已作為日前主流鍍膜辦法，重點(diǎn)包含濺射鍍膜 和真空蒸發(fā)鍍膜。

A、濺射鍍膜

濺射鍍膜指的是利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子出現(xiàn)動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基板材料表面的技術(shù)。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜材料的原材料，叫作為濺射靶材。

通常來講，濺射靶材重點(diǎn)由靶坯、背板（或背管）等部分形成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目的材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成薄膜材料；因?yàn)?/span>濺射靶材需要安裝在專用的設(shè)備內(nèi)完成濺射過程，設(shè)備內(nèi)部為高電壓、高真空的工作環(huán)境，都數(shù)靶坯的材質(zhì)較軟或高脆性，不適合直接安裝在設(shè)備內(nèi)運(yùn)用，因此呢，需與背板（或背管）綁定， 背板（或背管）重點(diǎn)起到固定濺射靶材的功效，且具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。

濺射鍍膜的基本原理如下：

濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可掌控，可在大面積基板材料上得到厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已作為制備薄膜材料的重點(diǎn)技術(shù)之一，各樣類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此呢，對濺射靶材這一擁有高附加值的功能材料需要逐年增多，濺射靶材也已作為日前市場應(yīng)用量最大的 PVD 鍍膜材料。

濺射靶材的種類較多，即使相同材質(zhì)的濺射靶材亦有區(qū)別的規(guī)格。根據(jù)區(qū)別的歸類辦法，可將濺射靶材分為區(qū)別的類別，重點(diǎn)歸類狀況如下：

B、真空蒸發(fā)鍍膜 

真空蒸發(fā)鍍膜指的是在真空要求下，利用膜材加熱安裝（叫作為蒸發(fā)源）的熱能，經(jīng)過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面的一種沉積技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)是用真空蒸發(fā)鍍膜法沉積薄膜材料的原材料，叫作之為蒸鍍材料。

真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)通常由三個(gè)部分組成：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱安裝、安置基板及給基板加熱安裝。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物，同期需要供給蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達(dá)到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。

真空蒸發(fā)鍍膜的基本原理如下：

真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)擁有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn)，是應(yīng)用廣泛的鍍膜技術(shù)，重點(diǎn)應(yīng)用于小尺寸基板材料的鍍膜。

②CVD技術(shù)

CVD 技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應(yīng)、把含有形成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面出現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)生成薄膜材料的技術(shù)。

2、重點(diǎn)PVD 鍍膜材料

（1）濺射靶材

濺射靶材是高速荷能粒子轟擊的目的材料，擁有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點(diǎn)，通常由靶坯和背板（或背管）構(gòu)成。按運(yùn)用的原材料材質(zhì)區(qū)別，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。

擁有表率性的濺射靶材制品如下：

濺射靶材應(yīng)用于平板表示、光學(xué)元器件、節(jié)能玻璃、半導(dǎo)體、 太陽能電池等行業(yè)。表率性的濺射靶材圖示如下：

合金靶材：  

（2）蒸鍍材料 

采用區(qū)別的原材料、配方及工藝，迄今已開發(fā)出數(shù)百種蒸鍍材料，部分重點(diǎn)制品說明如下：

蒸鍍材料應(yīng)用行業(yè)包含光學(xué)元器件、LED、平板表示和半導(dǎo)體分立器等。擁有表率性的蒸鍍材料圖示如下： 

重點(diǎn)制品工藝流程 

1、濺射靶材工藝流程 

其中，重點(diǎn)工序的詳細(xì)含義如下： 

粉末冶煉：對原料粉末進(jìn)行前期的氣氛燒結(jié)，對原料粉末中氣體含量進(jìn)行掌控。 

粉末混合：靶材有著獨(dú)特的配方，需精確的掌控各組分的含量，并嚴(yán)格限制雜質(zhì)含量，在粉末冶金的過程中，需要將各元素充分混合均勻，粒度分布均勻，防止污染，并要經(jīng)過特殊工藝手段制備成混合型復(fù)合粉。

壓制成型：采用粉末冶金工藝制備的靶材需要對粉體材料進(jìn)行預(yù)壓，使之作為中等密度生坯，其密度的均勻性和內(nèi)部的缺陷影響著后期高溫?zé)Y(jié)的成品率。

氣氛燒結(jié)：預(yù)壓成型的生坯需要再經(jīng)過一次或多次的高溫?zé)Y(jié)，按照區(qū)別材料選取區(qū)別的燒結(jié)溫度曲線，并選取區(qū)別的燒結(jié)環(huán)境，如燒結(jié)氣氛、燒結(jié)壓力等，從而制備成高密度的靶坯。 

塑性加工：金屬坯錠需經(jīng)過大幅度的塑性變形，以得到足夠的長寬厚度尺寸，并使得內(nèi)部晶粒進(jìn)行足夠的拉伸變形，從而在內(nèi)部產(chǎn)生足夠多的位錯。? 熱處理：金屬坯錠在經(jīng)過大幅度的塑形變形后，按照區(qū)別的材料的特性選取熱處理工藝，從而使金屬材料出現(xiàn)重結(jié)晶，去除材料內(nèi)應(yīng)力。

超聲探傷：靶坯加工完后需要采用超聲波進(jìn)行檢測材料內(nèi)部是不是有缺陷，靶坯與背板綁定完成后，需要采用水浸式超聲波掃描儀進(jìn)行粘結(jié)層的檢測，檢驗(yàn)粘結(jié)面積是不是達(dá)標(biāo)。 

機(jī)械加工：靶坯需要進(jìn)行精細(xì)的機(jī)械成型加工，用于與靶坯復(fù)合運(yùn)用的背板，因?yàn)?/span>承擔(dān)與鍍膜設(shè)備精確協(xié)同、承受高壓水冷等功效，需要具備極高的尺寸精度與機(jī)械強(qiáng)度，加工難度較高，尤其是帶內(nèi)循環(huán)水路的背板，因?yàn)?/span>材質(zhì)的特殊性，水路的密閉焊接非常困難，需要用到特種焊接工藝。

金屬化：靶坯與背板在綁定之前，為加強(qiáng)靶材和靶材與焊料的金屬潤濕性能，需要進(jìn)行焊合面的預(yù)處理，使之表面鍍上一層過渡層。

綁定：大部分靶材因?yàn)?/span>材料的理學(xué)或化學(xué)性能受限，不可直接裝機(jī)鍍膜運(yùn)用，需要采用金屬焊料將靶坯與背板相互焊合連接，并且表面有效粘結(jié)率需要達(dá)到大于 95%的大面積焊合，全部過程需要在高溫和高壓下進(jìn)行。 

2、蒸鍍材料工藝流程 

其中，重點(diǎn)工序的詳細(xì)含義如下： 

混料：指配制好的原料經(jīng)過機(jī)械混合達(dá)到均勻分散的加工工藝過程，是材料加工中最重要的生產(chǎn)工藝之一。

原料預(yù)處理：指將混和好的原料進(jìn)行常溫或高溫處理，加強(qiáng)材料的純度，細(xì)化顆粒的粒度，激發(fā)材料的反應(yīng)活性，降低材料燒結(jié)溫度。 

成型：指將材料經(jīng)過機(jī)械方式達(dá)到所需規(guī)格的加工工藝工程，是材料加工中最重要的生產(chǎn)工藝之一。 

燒結(jié)：指材料在高溫下，陶瓷生坯固體顆粒的相互鍵聯(lián)，晶粒成長，空隙（氣孔）和晶界漸趨減少，經(jīng)過物質(zhì)的傳遞，其總體積收縮，密度增多，最后作為擁有某種顯微結(jié)構(gòu)的致密多晶燒結(jié)體的過程，是材料加工中最重要的生產(chǎn)工藝之一。燒結(jié)方式重點(diǎn)有常壓高溫?zé)Y(jié)、真空燒結(jié)、熱壓燒結(jié)、氣氛燒結(jié)等。

鍍膜檢測：是在蒸鍍材料生產(chǎn)完后，采用蒸發(fā)鍍膜設(shè)備對材料的性能進(jìn)行檢測，檢測制品性能指標(biāo)是不是合格，是材料性能檢測中重要的檢測手段。

PVD 鍍膜材料行業(yè)上下游產(chǎn)業(yè)鏈 

PVD 鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系如下：

2016 年全世界高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模約為 113.6 億美元，其中平板表示（含觸控屏）用靶材為 38.1 億美元、半導(dǎo)體用靶材 11.9 億美元、太陽能電池用靶材23.4 億美元、記錄媒介靶材 33.5 億美元。到 2019 年，全世界高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模將超過 163 億美元，年復(fù)合增長率達(dá) 13%。

PVD 鍍膜材料下游應(yīng)用行業(yè)概況  

1、平板表示行業(yè) 

PVD 鍍膜材料在平板表示行業(yè)的應(yīng)用

平板表示器重點(diǎn)包含液晶表示器（LCD）、等離子表示器（PDP）、有機(jī)發(fā)光二極管表示器（OLED）等，以及在 LCD 基本上發(fā)展起來的觸控（TP）表示制品。

鍍膜是現(xiàn)代平板表示產(chǎn)業(yè)的基本環(huán)節(jié)，為保準(zhǔn)大面積膜層的均勻性，加強(qiáng)生產(chǎn)率和降低成本，幾乎所有類型的平板表示器件都會運(yùn)用海量的鍍膜材料來形成各類功能薄膜，其所運(yùn)用的 PVD 鍍膜材料重點(diǎn)為濺射靶材，平板表示器的非常多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切關(guān)聯(lián)。平板表示鍍膜用濺射靶材重點(diǎn)品種有：鉬靶、鋁靶、鋁合金靶、鉻靶、銅靶、銅合金靶、硅靶、鈦靶、鈮靶和氧化銦錫（ITO）靶材等。

平板表示行業(yè)鍍膜工藝示意圖如下： 

平板表示行業(yè)重點(diǎn)在表示面板和觸控屏面板兩個(gè)制品生產(chǎn)環(huán)節(jié)運(yùn)用 PVD 鍍膜材料。其中，平板表示面板的生產(chǎn)工藝中，玻璃基板要經(jīng)太多次濺射鍍膜形成ITO 玻璃，而后再經(jīng)過鍍膜，加工組裝用于生產(chǎn) LCD 面板、PDP 面板及 OLED面板等。觸控屏的生產(chǎn)，則還需將 ITO 玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極，再與防護(hù)屏等部件組裝加工而成。另外，為了實(shí)現(xiàn)平板表示制品的抗反射、消影等功能，還能夠在鍍膜環(huán)節(jié)中增多相應(yīng)膜層的鍍膜。

平板表示器擁有厚度薄、重量輕、低能耗、低輻射、無閃爍、壽命長等特點(diǎn)，符合人們對輕巧便攜和節(jié)能環(huán)保的需求，已作為表示屏行業(yè)的主流。尤其是液晶表示器中的薄膜場效應(yīng)晶體液晶表示器（TFT-LCD）因擁有畫質(zhì)優(yōu)、對比度高、響應(yīng)速度快等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于平板電視、手機(jī)、平板電腦、筆記本電腦等消費(fèi)類電子制品，是日前主流平板表示制品。TFT-LCD 生產(chǎn)過程中，濺射靶材重點(diǎn)用于薄膜晶體管（TFT）和彩色濾光片（CF）的制備。

②觸控屏市場

觸控表示制品是平板表示行業(yè)應(yīng)用行業(yè)的重要構(gòu)成部分，而觸控屏是觸控表示制品的重要部件。觸控屏是一種特殊傳感器，是一個(gè)不運(yùn)用鍵盤和鼠標(biāo)做為輸入設(shè)備與表示設(shè)備的人機(jī)交互界面，觸控屏的顯現(xiàn)，統(tǒng)一了觸覺和視覺，使得人機(jī)交互更加直觀和方便。觸控屏最大市場需要重點(diǎn)來自智能手機(jī)和平板電腦，同期，車載表示和智能穿戴設(shè)備市場亦呈快速增長態(tài)勢。近年來，隨著智能手機(jī)、平板電腦、車載表示、智能穿戴及商場化信息查找系統(tǒng)等智能終端制品的普及推廣，全世界觸控表示制品和技術(shù)發(fā)展進(jìn)步較快，產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)提高。

觸控屏的結(jié)構(gòu)大致可分為兩部分，分別是防護(hù)屏和觸控模組。其中，觸控模組鍍膜所用的濺射靶材重點(diǎn)為 ITO、硅、鉬、鋁等，采用硅靶材反應(yīng)濺射形成的二氧化硅膜則重點(diǎn)起增多玻璃與 ITO 膜的附著力和平整性、表面鈍化和守護(hù)等功效；鍍 MoAlMo（鉬鋁鉬）膜后蝕刻重點(diǎn)起金屬引線搭橋的功效。防護(hù)屏重點(diǎn)用于守護(hù)觸控模組和表示屏免受損害，其擁有防刮耐磨、耐腐蝕、透光率高、反射率低、防油污及美觀等功能，實(shí)現(xiàn)這些功能需要運(yùn)用區(qū)別鍍膜材料，重點(diǎn)為濺射靶材。

2、光學(xué)元器件行業(yè) 

（1）光學(xué)元器件行業(yè)概況 

光學(xué)元器件行業(yè)屬于光學(xué)產(chǎn)業(yè)鏈的中游，與其密切關(guān)聯(lián)的行業(yè)為光學(xué)材料生產(chǎn)行業(yè)及光電整機(jī)行業(yè)，其中光學(xué)材料生產(chǎn)行業(yè)處在光學(xué)元器件行業(yè)的上游，光電整機(jī)行業(yè)處在光學(xué)元器件行業(yè)的下游。

自從上世紀(jì) 90 年代末數(shù)字化帶動光電應(yīng)用制品快速發(fā)展后，光學(xué)元器件應(yīng)用行業(yè)越來越廣，從光學(xué)傳感、照明、通信技術(shù)、能量檢測、信息存儲、傳輸、處理和表示，到現(xiàn)代的如生命科學(xué)、汽車、航空航天等行業(yè)的生產(chǎn)和應(yīng)用，它存在于現(xiàn)代人每日生活和經(jīng)濟(jì)活動的大部分行業(yè)，常規(guī)的應(yīng)用制品包含智能手機(jī)、車載鏡頭、安防監(jiān)控設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、光碟機(jī)、投影機(jī)等，高端的應(yīng)用制品包含航空航天監(jiān)測鏡頭、生物識別設(shè)備、生命科學(xué)中 DNA 測序等科研設(shè)備、醫(yī)療檢測儀器鏡頭、半導(dǎo)體檢測設(shè)備以及大視場投影鏡頭（如 IMAX）、3D 打印機(jī)等儀器設(shè)備所需的光學(xué)元器件及光學(xué)鏡頭。隨著科技的進(jìn)步和制造工藝的提高，智能手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)等電子制品逐步作為居民重要的消費(fèi)制品，其更新?lián)Q代的加快、制品周期的縮短帶動了光學(xué)元器件行業(yè)的穩(wěn)步發(fā)展。近些年來安防監(jiān)控設(shè)備、車載鏡頭、航天航空行業(yè)的快速發(fā)展亦對光學(xué)元器件行業(yè)的增長起到了推動功效。

①智能手機(jī)應(yīng)用市場 

近年來，國內(nèi)品牌手機(jī)實(shí)現(xiàn)大幅增長，帶動了產(chǎn)業(yè)鏈上游的發(fā)展。隨著智能手機(jī)的普及，攝像頭已作為手機(jī)標(biāo)配，而手機(jī)廠商在推出手機(jī)新品時(shí)亦會思慮在攝像頭像素上更新升級，以迎合市場需要，攝像頭高清化作為手機(jī)廠商必爭之地。與此同期，智能手機(jī)、平板電腦配備攝像頭和雙攝像頭的比例亦在快速提高。

智能手機(jī)的更新?lián)Q代帶動了光學(xué)元器件的持續(xù)發(fā)展，將來隨著 3D 手勢掌控和眼球跟蹤等功能的持續(xù)開發(fā)，智能手機(jī)廠商將在新的機(jī)型中配置更加多攝像頭以實(shí)現(xiàn)對以上功能的支持，對光學(xué)元器件的需要將進(jìn)一步提高。

②安防監(jiān)控應(yīng)用市場 

近年來我國出臺多項(xiàng)政策逐步推進(jìn)安全城市概念，高清化攝像頭做為交管監(jiān)控、偵查線索被廣泛應(yīng)用，視頻監(jiān)控市場逐步從一線城市擴(kuò)大到二三線城市。

隨著公共與個(gè)人安全越來越受到注重，視頻監(jiān)控市場的高速發(fā)展連續(xù)推動精細(xì)光學(xué)鏡片需要的增長，在將來幾年將繼續(xù)維持高景氣。 

③車載鏡頭行業(yè)分析 

隨著全世界汽車銷量的增長以及行車安全愈來愈受到人們的注重，車載攝像頭市場進(jìn)入快速增長時(shí)間。車載攝像頭擁有廣泛的應(yīng)用空間，根據(jù)應(yīng)用行業(yè)可分為行車輔助（行車記錄儀、ADAS（高級駕駛輔助系統(tǒng)）與主動安全系統(tǒng)）、駐車輔助（全車環(huán)視）與車內(nèi)人員監(jiān)控，貫穿行駛到泊車的全過程，日前運(yùn)用最多的是前視以及后視攝像頭，隨著 ADAS 系統(tǒng)滲透率加強(qiáng)以及人臉識別等技術(shù)運(yùn)用于汽車電子行業(yè)，車內(nèi)以及側(cè)視攝像頭將會得到進(jìn)一步應(yīng)用。

④航天航空行業(yè) 

隨著人們出行、旅游、拍攝等方面需要的不斷增長，近年來軍民融合概念的逐步深化，航天航空業(yè)得到較快發(fā)展，民用與軍用無人機(jī)、雷達(dá)、空中交通工具均實(shí)現(xiàn)很強(qiáng)程度的增長，帶動了航天航空用光學(xué)元器件的發(fā)展。《中國制造 2025》提出，要大力推動航空航天裝備等重點(diǎn)行業(yè)突破發(fā)展。將來隨著無人機(jī)等廣泛應(yīng)用于影視宣傳航拍航攝、農(nóng)林業(yè)植保、電力巡檢、國家應(yīng)急救援、物流物資運(yùn)輸、交通監(jiān)察、環(huán)境監(jiān)測等，航天航空用光學(xué)元器件有望迎來下一波快速發(fā)展。

（2）鍍膜材料在光學(xué)元器件行業(yè)的應(yīng)用 

因?yàn)?/span>現(xiàn)代精細(xì)光學(xué)元件向功能集成化和高精度方向發(fā)展，光學(xué)元器件的分光光譜特性等需依靠光學(xué)鍍膜實(shí)現(xiàn)，光學(xué)鍍膜技術(shù)已作為光學(xué)元器件行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)之一，運(yùn)用的 PVD 鍍膜材料包含濺射靶材和蒸鍍材料。

光學(xué)元器件鍍膜指的是在光學(xué)元器件上或獨(dú)立的基板材料上鍍上一層或多層，乃至數(shù)百層的介電質(zhì)膜、金屬膜、介電質(zhì)膜與金屬膜構(gòu)成的膜系，來改變光波傳導(dǎo)的特性，包含光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。精細(xì)光學(xué)鍍膜的偏振分光、減反射、光譜波長準(zhǔn)確定位（一般在納米級）等特性是日前其他技術(shù)難以替代的，因此光學(xué)鍍膜技術(shù)是光學(xué)元器件加工的關(guān)鍵技術(shù)，其擁有較高的技術(shù)門檻，日前有效、高品質(zhì)、低成本的批量化生產(chǎn)技術(shù)仍然僅有少許光學(xué)加工企業(yè)把握。

近年來，濺射鍍膜等鍍膜技術(shù)起始應(yīng)用于光學(xué)鍍膜，提高效率和良品率、降低成本效果顯著，作為實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)精細(xì)光學(xué)元器件的重要技術(shù)。 

將來受益于全世界及中國光學(xué)元器件行業(yè)與技術(shù)的發(fā)展，將對 PVD 鍍膜材料的需要有著直接的拉動功效。

3、其他下游應(yīng)用行業(yè) 

（1）半導(dǎo)體行業(yè) 

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)由集成電路、半導(dǎo)體分立器件、光電器件和傳感器等制品形成，其中集成電路是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最大的構(gòu)成部分，也是濺射靶材重要應(yīng)用行業(yè)。信息技術(shù)的飛速發(fā)展，需求集成電路的集成度越來越高，電路中單元器件尺寸持續(xù)縮小，元件尺寸由毫米級到微米級，再到納米級。每一個(gè)單元器件內(nèi)部由襯底、絕緣層、介質(zhì)層、導(dǎo)體層及守護(hù)層等構(gòu)成，其中，介質(zhì)層、導(dǎo)體層乃至守護(hù)層都要用到濺射鍍膜工藝，濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。

集成電路中所運(yùn)用的薄膜制品包含電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光刻薄膜、電容器電極膜、電阻薄膜等，運(yùn)用的濺射靶材重點(diǎn)包含鋁靶、鈦靶、銅靶、鉭靶、鎢鈦靶等。

（2）太陽能電池行業(yè) 

太陽能光伏行業(yè)中，PVD 鍍膜材料重點(diǎn)應(yīng)用于太陽能電池。按太陽能電池的結(jié)構(gòu)劃分，可分為結(jié)晶硅和薄膜太陽能電池二大族群。日前，PVD 鍍膜工藝重點(diǎn)在薄膜太陽能電池中運(yùn)用，重點(diǎn)鍍膜材料為濺射靶材。其中，較為常用的濺射靶材包含鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及 ITO 靶、AZO 靶（ Aluminum Zinc Oxide，氧化鋁鋅）等，純度需求通常在 99.99%以上，其中，鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，ITO 靶、AZO 靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。

結(jié)晶硅技術(shù)長時(shí)間在太陽能電池產(chǎn)業(yè)中占據(jù)主流地位，因?yàn)?/span>其成本較高，業(yè)內(nèi)始終經(jīng)過提高電池轉(zhuǎn)換效率、降低硅片切割厚度等技術(shù)來降低成本；與此同期，薄膜太陽能電池因其生產(chǎn)成本低、弱光性好（即在陰天發(fā)電能力強(qiáng)）、容易集成等優(yōu)良，逐步受到行業(yè)關(guān)注并增長快速，將來薄膜太陽能電池市場占有率將逐步加強(qiáng)。

（3）磁記錄媒介行業(yè) 

光磁記錄媒介重點(diǎn)包含光記錄媒介與磁記錄媒介兩種，采用濺射鍍膜工藝進(jìn)行鍍膜。其中，光記錄媒介按照盤片的類別和功能區(qū)別，鍍膜的需求亦區(qū)別，重復(fù)讀寫型盤片工藝最繁雜，需要鍍?nèi)龑幽ぃ謩e為反射層、介電層和記錄層；其余盤片則只需鍍反射層或半反射層。光記錄媒介需求濺射靶材擁有良好的薄膜特性、濺鍍效率、清凈度、晶像均勻性和回收系統(tǒng)等特性。磁記錄媒介需求濺射靶材擁有高純度、低氣體含量、細(xì)晶微結(jié)構(gòu)、均勻的金相、高磁穿透和運(yùn)用率、優(yōu)異的電性與機(jī)械特性等。

（4）節(jié)能玻璃行業(yè) 

日前，PVD 鍍膜材料在節(jié)能玻璃行業(yè)重點(diǎn)應(yīng)用于建筑節(jié)能玻璃及汽車鍍膜玻璃這兩個(gè)行業(yè)中，鍍膜材料重點(diǎn)為濺射靶材。 

濺射靶材在建筑節(jié)能行業(yè)重點(diǎn)用于低輻射鍍膜玻璃（Low-E 玻璃），Low-E玻璃是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物構(gòu)成的膜系制品，該制品對可見光有較高的透射率，對紅外線（尤其是中遠(yuǎn)紅外）有較高的反射率，擁有良好的隔熱性能，能達(dá)到掌控陽光、節(jié)約能源、熱量掌控調(diào)節(jié)及改善環(huán)境的功效，是日前全世界重點(diǎn)的建筑節(jié)能玻璃。

在汽車鍍膜玻璃中，濺射靶材日前重點(diǎn)用于汽車前風(fēng)窗玻璃上，汽車鍍膜玻璃是采用濺射鍍膜技術(shù)，在玻璃內(nèi)表層鍍上多層納米級的金屬膜，使太陽光的紅外線有效的被反射，阻隔熱能進(jìn)入車身體，降低空調(diào)負(fù)荷，同期維持良好的透光性，保持視野的清晰，較好的處理了貼膜玻璃存在的缺陷。在歐美等發(fā)達(dá)國家，鍍膜玻璃已做為中高檔轎車的標(biāo)準(zhǔn)配置，隨著我國人民生活水平的加強(qiáng)，汽車鍍膜玻璃已得到越來越多汽車制造商和消費(fèi)者的喜愛。

行業(yè)內(nèi)重點(diǎn)企業(yè) 

1、重點(diǎn)跨境企業(yè) 

（1）世泰科 

世泰科集團(tuán)（H.C.Starck）1920 年于德國柏林成立，是一家國際跨境集團(tuán)，總部位置于德國慕尼黑，世泰科致力于客戶化的高性能金屬與陶瓷粉末以及金屬制品的開發(fā)與生產(chǎn)，其鉭粉、鎢粉、鉭質(zhì)濺射靶材以及鎳鈮制品全世界市場占有率排名前列，是擁有全世界領(lǐng)先技術(shù)的金屬循環(huán)利用商。

世泰科特種材料（太倉）有限機(jī)構(gòu)是世泰科在中國設(shè)立的從事新材料的子機(jī)構(gòu)，成立于 2006 年 5 月 8 日，注冊資本 1,392 萬美元，經(jīng)營范圍：生產(chǎn)有色金屬復(fù)合材料、新型合金材料、陶瓷材料、表面處理材料和電子助劑，營銷機(jī)構(gòu)自產(chǎn)制品并供給關(guān)聯(lián)技術(shù)咨詢和售后服務(wù)；從事本機(jī)構(gòu)生產(chǎn)的同類制品的批發(fā)、進(jìn)出口及傭金代理業(yè)務(wù)（拍賣除外）。

（2）賀利氏 

賀利氏集團(tuán)（Heraeus）成立于 1851 年，總部位置于德國哈瑙市，是國際著名的集貴金屬化工制品開發(fā)、生產(chǎn)及營銷服務(wù)的高科技跨境集團(tuán)機(jī)構(gòu)，重點(diǎn)從事貴金屬材料與技術(shù)、齒科材料、石英玻璃、工業(yè)傳感器和特種光源等高新技術(shù)行業(yè)，制品廣泛服務(wù)于半導(dǎo)體行業(yè)，其中高純石英和濺射靶材、蒸發(fā)材料應(yīng)用于芯片制造、導(dǎo)電膠和鍵合絲應(yīng)用于集成電路、分立器件和光電器件的封裝。

上海賀利氏工業(yè)技術(shù)材料有限機(jī)構(gòu)是賀利氏在中國設(shè)立的從事新材料的子機(jī)構(gòu)，成立于 1994 年 9 月 19 日，注冊資本 810 萬美元，經(jīng)營范圍：回收利用、加工、生產(chǎn)銥粒，催化網(wǎng)，鉑族（鉑、銠、鈀、釕、銥、鋨）化合物，電子漿料，陶瓷顏料，鉑金漏板，硬質(zhì)合金軸承珠和微型刀具，鉑銠熱電偶絲和配件，實(shí)驗(yàn)室用鉑金器皿，模壓塑料/金屬組體，用鈦、鈮、鋯和鉭制成的電極和耐腐管子管材，真空靶材，母合金顆粒，電路、零部件材料及鈀、銠、銥、釕、鋨、硅樹脂、鍺、鉻、銦和錫材料，金屬和陶瓷類義齒材料，營銷自產(chǎn)制品。

（3）優(yōu)美科 

優(yōu)美科集團(tuán)（Umicore）是一家全世界材料科技集團(tuán)，總部位置于比利時(shí)。優(yōu)美科持有四大業(yè)務(wù)集團(tuán)：催化、能源材料、高性能材料和回收。每一個(gè)業(yè)務(wù)集團(tuán)又劃分為以市場為導(dǎo)向的區(qū)別業(yè)務(wù)單位，這些業(yè)務(wù)單位供給走在技術(shù)發(fā)展前沿并且是平常生活所必需的材料和處理方法。優(yōu)美科在全世界各大洲開展運(yùn)營，客戶群遍及全世界。優(yōu)美科2014-2016年度的營銷額分別是88.28億歐元、104.42 億歐元、110.86億歐元。

優(yōu)美科先導(dǎo)薄膜技術(shù)有限機(jī)構(gòu)是優(yōu)美科在中國設(shè)立的從事濺射靶材的子機(jī)構(gòu)，于 2014 年 9 月 11 日在廣東省清遠(yuǎn)市成立，注冊資本為 14,000 萬元，經(jīng)營范圍：在中國行業(yè)內(nèi)研發(fā)、生產(chǎn)、綁定、營銷和營銷平板及旋轉(zhuǎn)氧化銦錫（“ITO”）濺射靶材（“ITO”靶材）；為生產(chǎn) ITO 靶材或蒸鍍級 ITO，在中國行業(yè)內(nèi)研發(fā)、生產(chǎn)、營銷和營銷以下中間品：氧化銦、氫氧化銦、ITO 粉末和 ITO 丸；在中國行業(yè)內(nèi)回收 ITO 廢靶、ITO 生產(chǎn)廢料和運(yùn)用 ITO 靶材產(chǎn)生的副制品；為金屬套期保值和庫存管理的目的營銷銦。

北京優(yōu)美科巨玻薄膜制品有限機(jī)構(gòu)是優(yōu)美科在中國設(shè)立的從事光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)的子機(jī)構(gòu)，成立于 1991 年 11 月 21 日，注冊資本 54 萬元，經(jīng)營范圍：生產(chǎn)光學(xué)鍍膜材料和制品及其它薄膜鍍膜材料和制品；營銷自產(chǎn)制品等。 

（4）普萊克斯 

普萊克斯機(jī)構(gòu)（Praxair）總部位置于美國，是世界最大的氣體供應(yīng)商之一，該機(jī)構(gòu)最初創(chuàng)建于 1907 年，重點(diǎn)制品包含大氣氣體制品、生產(chǎn)氣體制品以及表面技術(shù)制品。普萊克斯機(jī)構(gòu)重點(diǎn)服務(wù)于航空航天、化工、醫(yī)療保健、金屬生產(chǎn)、石油天然氣、能源、電子等行業(yè)，其中其電子行業(yè)的重點(diǎn)制品包含電子設(shè)備、大氣氣體傳送系統(tǒng)、濺射靶材等，其濺射靶材重點(diǎn)應(yīng)用于電子及半導(dǎo)體行業(yè)。

2014-2016 年度，普萊克斯營銷額分別為 122.73 億美元、107.76 億美元、105.34億美元，其中濺射靶材所屬的表面技術(shù)制品營銷額分別為 6.79 億美元、6.09 億美元、5.96 億美元。 

（5）霍尼韋爾 

霍尼韋爾國際機(jī)構(gòu)（Honeywell International Inc.）成立于 1885 年，總部位置于美國，持有航空航天集團(tuán)、自動化掌控系統(tǒng)集團(tuán)以及特殊材料和技術(shù)集團(tuán)三大業(yè)務(wù)分部。其中特殊材料和技術(shù)集團(tuán)下屬特性材料業(yè)務(wù)分部，重點(diǎn)制品之一電子原材料包含熱界面材料、電子化學(xué)品、電子聚合物、貴金屬熱電偶、靶材、線圈組和金屬材料等?；裟犴f爾的重點(diǎn)靶材包含鈦鋁靶、鈦靶、鋁靶、鉭靶、銅靶等。

2014-2016 年度霍尼韋爾營銷額分別為 403.06 億美元，385.81 億美元、393.02 億美元，其中靶材所屬的新材料營銷額分別為 39.04 億美元、35.10 億美元、33.27億美元。 

（6）住友化學(xué) 

住友化學(xué)株式會社（Sumitomo Chemical Company, Limited）成立于 1913 年，總部位置于日本，重點(diǎn)服務(wù)于石油化學(xué)、能源-功能材料、情報(bào)電子化學(xué)、健康-農(nóng)業(yè)關(guān)聯(lián)事業(yè)和醫(yī)藥五大行業(yè)。其中情報(bào)電子化學(xué)向 ICT 關(guān)聯(lián)產(chǎn)業(yè)供給液晶表示器中運(yùn)用的光學(xué)薄膜和彩色光阻劑，半導(dǎo)體制造過程中運(yùn)用的光刻膠和高純度藥物，電子零部件和電動汽車所運(yùn)用的超級工程塑料，以及鋰離子二次電池用構(gòu)件等各類制品。2014-2016 財(cái)年（上年 4 月 1 日至當(dāng)年 3 月 31 日），住友化學(xué)營銷額分別為 2.24 萬億日元，2.38 萬億日元、2.10 萬億元，其中濺射靶材所屬的情報(bào)電子化學(xué)行業(yè)營銷額分別為 3,623 億日元、4,051 億日元、4,091 億日元。住友化學(xué)在國內(nèi)設(shè)立的子機(jī)構(gòu)中從事新材料關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)的有住化電子材料科技（無錫）有限機(jī)構(gòu)、住化電子材料科技（上海）有限機(jī)構(gòu)、住化華北電子材料科技（北京）有限機(jī)構(gòu)三家機(jī)構(gòu)。

住化電子材料科技（無錫）有限機(jī)構(gòu)成立于 2004 年 7 月 26 日，注冊資本16,222.22 萬美元，經(jīng)營范圍：研發(fā)、生產(chǎn)半導(dǎo)體、元器件專用材料、電子用高科技化學(xué)品、工程塑料、塑料板；并供給售后服務(wù)、技術(shù)服務(wù)；自有廠房租賃；從事以上制品的批發(fā)、零售、傭金代理及進(jìn)出口業(yè)務(wù)，設(shè)備租賃。

住化電子材料科技（上海）有限機(jī)構(gòu)成立于 2001 年 9 月 14 日，注冊資本 777.78 萬美元，經(jīng)營范圍：區(qū)內(nèi)光學(xué)用多功能薄膜的生產(chǎn)加工及光學(xué)用多功能薄膜加工設(shè)備、器械（斜角剪切機(jī)、壓力貼合機(jī)、半裁機(jī)、萬能剪切機(jī)、重繞機(jī)）的制造，金屬鎵的精制、加工；應(yīng)用于液晶面板及半導(dǎo)體前制程的濺射靶材與靶材襯底的貼合加工，以及其他相關(guān)液晶表示器用零部件的制造；營銷自產(chǎn)制品等。

住化華北電子材料科技（北京）有限機(jī)構(gòu)成立于 2009 年 11 月 16 日，注冊資本 4,366.67 萬美元。經(jīng)營范圍：生產(chǎn) TFT-LCD 平板表示屏材料；TFT-LCD 平板表示屏材料的研發(fā)；技術(shù)咨詢、技術(shù)服務(wù)；營銷自產(chǎn)制品；TFT-LCD 平板表示屏材料、電子材料的批發(fā)、傭金代理（拍賣除外）、進(jìn)出口業(yè)務(wù)。

（7）東曹 

東曹株式會社（Tosoh Corporation）成立于 1935 年，總部位置于日本，其功能制品分部由有機(jī)化學(xué)制品、高機(jī)能材料制品、生命科學(xué)三部分構(gòu)成，其中高機(jī)能材料制品重點(diǎn)包含電池材料、石英玻璃、分子篩、濺射靶材等。其濺射靶材經(jīng)過在美國、日本、韓國和中國的生產(chǎn)基地生產(chǎn)，重點(diǎn)用于半導(dǎo)體、太陽能發(fā)電、平板表示器、磁記錄媒介等行業(yè)。2014-2016 財(cái)年（上年 4 月 1 日至當(dāng)年 3 月 31日）東曹營銷額分別為 7,722.72 億日元、8,096.84 億日元、7,537.36 億日元。

東曹達(dá)（上海）電子材料有限機(jī)構(gòu)是東曹株式會社在中國設(shè)立的觸及濺射靶材業(yè)務(wù)的子機(jī)構(gòu)，成立于 2011 年 7 月 6 日，注冊資本 100 萬美元，經(jīng)營范圍：開發(fā)、生產(chǎn)、加工機(jī)電、電子、半導(dǎo)體、光能設(shè)備、關(guān)聯(lián)材料制品（濺射靶材、石英）及以上關(guān)聯(lián)制品零部件，營銷機(jī)構(gòu)自產(chǎn)制品，并供給倉儲；同類商品（特定商品除外）的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及關(guān)聯(lián)制品售后技術(shù)、咨詢等配套服務(wù)；電子材料科技行業(yè)內(nèi)的技術(shù)研發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)服務(wù)及技術(shù)轉(zhuǎn)讓業(yè)務(wù)。

（8）JX 金屬  

JX 金屬株式會社（JX Nippon Mining & Metals Corporation）成立于 1992 年，為 JX 控股子機(jī)構(gòu)。JX 控股總部位置于日本，重點(diǎn)有能源業(yè)務(wù)、石油天然氣探測和生產(chǎn)業(yè)務(wù)、金屬業(yè)務(wù)三大業(yè)務(wù)，其中金屬業(yè)務(wù)為 JX 金屬運(yùn)營，JX 金屬以銅為中心，致力開展從上游的資源研發(fā)、中游的金屬冶煉至下游的電子材料加工、環(huán)保資源再生業(yè)務(wù)，重點(diǎn)制品包含銅箔、復(fù)合半導(dǎo)體、金屬粉末、濺射靶材等，其中濺射靶材重點(diǎn)用于大規(guī)模集成電路、平板表示、相變光盤等。2014-2016 財(cái)年（上年 4 月 1 日至當(dāng)年 3 月 31 日）JX 控股與金屬業(yè)務(wù)關(guān)聯(lián)的營銷額分別為 10,391億日元、11,560 億日元和 10,497 億日元。

（9）愛發(fā)科 

日本愛發(fā)科真空技術(shù)株式會社（ULVAC,Inc.）成立于 1952 年，總部位置于日本，設(shè)有真空設(shè)備分部和真空應(yīng)用分部，重點(diǎn)制品分為真空設(shè)備、真空組件和原材料三大類，其中原材料包含高性能材料和濺射靶材，其濺射靶材重點(diǎn)應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池等行業(yè)，另外愛發(fā)科還能夠生產(chǎn) ITO 靶材。2014-2016財(cái)年（上年 7 月 1 日至當(dāng)年 6 月 30 日），愛發(fā)科的營銷額分別 1,738.78 億日元、1,791.74 億日元、1,924.37 億日元，其中 2014、2015 財(cái)年濺射靶材所屬的真空應(yīng)用分部的營銷額分別為 360.68 億日元、315.33 億日元、320.00 億日元。

愛發(fā)科真空技術(shù)（蘇州）有限機(jī)構(gòu)是愛發(fā)科中國設(shè)立的觸及濺射靶材業(yè)務(wù)的子機(jī)構(gòu)，成立于 2003 年 7 月 8 日，注冊資本為 3,450 萬美元，經(jīng)營范圍重點(diǎn)是：液晶、半導(dǎo)體生產(chǎn)用安裝，真空爐，真空關(guān)聯(lián)安裝、零部件的科研研發(fā)、生產(chǎn)、加工，營銷其制品并供給售后服務(wù)。自有多余廠房出租（出租對象僅限于與本機(jī)構(gòu)生產(chǎn)經(jīng)營直接相關(guān)的或集團(tuán)內(nèi)部企業(yè)）；本機(jī)構(gòu)生產(chǎn)制品的同類商品及原材料的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及關(guān)聯(lián)業(yè)務(wù)。

（10）三井礦業(yè) 

三井礦業(yè)冶煉有限機(jī)構(gòu)（Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd.）成立于 1950 年，主營業(yè)務(wù)包含工程材料、電子材料制造和營銷，非鐵金屬加工、資源研發(fā)、貴金屬回收、原材料關(guān)聯(lián)事業(yè)，汽車配件制造和營銷等。2014-2016 年度的營銷額分別為 4,410.46 億日元、4,732.74 億日元、4,506.53 億日元。其中 PVD 鍍膜材料所屬分部 2014、2015 年度的營銷額分別為 1,366 億日元、1,532 億日元、1,440 億日元。

（11）攀時(shí) 

奧地利攀時(shí)集團(tuán)（Plansee）成立于 1921 年，是專注于生產(chǎn)、加工與營銷難熔金屬鉬與鎢的供應(yīng)商，攀時(shí)集團(tuán)旗下包含三個(gè)業(yè)務(wù)群與一個(gè)控股機(jī)構(gòu)：攀時(shí)高性能材料制造難熔金屬部件、森拉天時(shí)制造硬質(zhì)合金刀具、GTP 為集團(tuán)供應(yīng)鎢精礦、Molymet 為集團(tuán)供應(yīng)鉬精礦。

攀時(shí)運(yùn)用鋁、鈦、鋯、鉻等金屬與陶瓷材料生產(chǎn)濺射靶材與電弧陰極。攀時(shí)濺射靶材與電弧陰極的性能尤其之處：優(yōu)異的材料純度；極高的材料密度；極其精細(xì)的晶粒以及微觀結(jié)構(gòu)。2015 年度、2016 年度，攀時(shí)的營銷額分別為 11.82億歐元、21.68 億歐元。

（12）佳能 

佳能機(jī)構(gòu)（Canon Inc.）1937 年創(chuàng)立，總部位置于日本東京，與美洲、歐洲、亞洲和大洋洲的各區(qū)域總部緊密聯(lián)系，構(gòu)筑了全世界化與本土化有機(jī)結(jié)合的經(jīng)營體制。日前，佳能事業(yè)以光學(xué)技術(shù)為核心，涵蓋了影像系統(tǒng)制品、辦公制品以及產(chǎn)業(yè)設(shè)備等廣泛行業(yè)。其中，產(chǎn)業(yè)設(shè)備及其他事業(yè)行業(yè)重點(diǎn)包含：數(shù)碼印刷系統(tǒng)、生產(chǎn)型照片輸出系統(tǒng)、業(yè)務(wù)用高速連續(xù)紙打印機(jī)、彩色標(biāo)簽/卡片打印機(jī)、眼科設(shè)備、安防監(jiān)控?cái)z像機(jī)、工業(yè)相機(jī)、半導(dǎo)體揭發(fā)設(shè)備、FPD（平板表示器）揭發(fā)設(shè)備、液晶表示屏制造設(shè)備、混合現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)、3D 設(shè)備視覺系統(tǒng)、手持終端、元件、固晶體、真空鍍膜設(shè)備等。2014-2016 年度佳能營銷額分別是 37,272.52 億日元、38,002.71 億日元、34,014.87 億日元。

（13）默克 

德國默克集團(tuán)（Merck）成立于 1668 年，默克包含醫(yī)藥健康、生命科學(xué)、高性能材料等事業(yè)部，其中高性能材料事業(yè)部包含多種特殊化學(xué)制品，如液晶表示屏、用于涂料和打扮品的效果顏料，或是電子行業(yè)的高新技術(shù)材料。2014-2016年度，默克營銷額分別為 422.37 億美元、394.98 億美元和 398.07 億美元。

2、國內(nèi)重點(diǎn) PVD 鍍膜材料廠商 

日前中國涌現(xiàn)了一批 PVD 鍍膜材料行業(yè)的參與者，其中以有研億金、江豐電子和阿石創(chuàng)擁有表率性；同期，隆華節(jié)能經(jīng)過收購其他 PVD 鍍膜材料廠商的股權(quán)介入 PVD 鍍膜材料行業(yè)。有研億金、江豐電子與隆華節(jié)能簡介如下：

（1）有研億金 

有研億金新材料有限機(jī)構(gòu)為有研新材料股份有限機(jī)構(gòu)（600206.SH）之全資子機(jī)構(gòu)，成立于 2000 年 10 月，總部位置于北京，注冊資本 20,000 萬元，有研億

金重點(diǎn)開發(fā)、生產(chǎn)、營銷微電子光電子用薄膜新材料、生物醫(yī)用新材料、貴金屬材料及制品，并開展稀有及貴金屬材料信息咨詢、技術(shù)服務(wù)和套期保值等業(yè)務(wù)；重點(diǎn)制品包含高純金屬靶材、蒸鍍材料、口腔正畸器具、醫(yī)療用介入支架和貴金屬合金、化合物等，其靶材制品重點(diǎn)包含鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等。

（2）江豐電子 

寧波江豐電子材料股份有限機(jī)構(gòu)成立于 2005 年 4 月，注冊資本 21,876.00萬元。江豐電子主營業(yè)務(wù)為高純?yōu)R射靶材的開發(fā)、生產(chǎn)和營銷，重點(diǎn)制品為各樣

高純?yōu)R射靶材，包含鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等，重點(diǎn)用于制備電子薄膜材料。

日前，江豐電子制品重點(diǎn)應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能電池及平板表示器等行業(yè)。

（3）隆華節(jié)能 

洛陽隆華傳熱節(jié)能股份有限機(jī)構(gòu)（300263，SZ）成立于 1995 年 7 月 5 日，于 2011 年 9 月 16 日在創(chuàng)業(yè)板上市，主營業(yè)務(wù)為熱傳節(jié)能制品、環(huán)保水處理制品及服務(wù)。隆華節(jié)能分別于 2015 年和 2016 年經(jīng)過收購洛陽高新四豐電子材料有限機(jī)構(gòu)和廣西晶聯(lián)光電材料有限責(zé)任機(jī)構(gòu)介入 PVD 鍍膜材料行業(yè)。四豐電子和晶聯(lián)光電基本狀況如下（資料來源：隆華節(jié)能定時(shí)報(bào)告及關(guān)聯(lián)公告、國家企業(yè)信用信息公示系統(tǒng)）：

四豐電子成立于 2001 年 6 月，日前注冊資本 7,000.00 萬元，重點(diǎn)從事高純金屬及合金材料業(yè)務(wù)，制品以鉬靶材為主。2015 年 1 月，隆華節(jié)能完成對四豐電子 100%的收購，并于 2016 年 2 月起將其納入合并報(bào)表范圍。 

晶聯(lián)光電成立于 2007 年 9 月，日前注冊資本 8,453.5747 萬元，重點(diǎn)從事氧化銦錫（ITO）靶材的開發(fā)、生產(chǎn)和營銷；2016 年 8 月 24 日，隆華節(jié)能發(fā)布《關(guān)于對外投資的公告》，經(jīng)過股權(quán)轉(zhuǎn)讓及增資方式持有晶聯(lián)光電 70%股權(quán)。

國內(nèi)競爭與前景

靶材隸屬于成膜的材料類，成膜材料又分為：蒸發(fā)材料/濺射靶材等等形式，靶材的應(yīng)用：

1 面板行業(yè)：便是一般所說的TFT-LCD還有OLED制程，國內(nèi)的重點(diǎn)生廠商有BOE(京東方)/天馬/華星等等；用到的靶材有：鉬靶/鋁靶/ITO靶/硅靶/硅鋁等等 靶材生產(chǎn)廠家：攀時(shí)（奧地利），GFE,賀利士，梭萊（美國）等等，國內(nèi)的的廠家介入較早的是隆華節(jié)能旗下的四豐電子;阿石創(chuàng)……

 總結(jié)：這個(gè)行業(yè)呢此刻好的制程基本都是進(jìn)口，由于進(jìn)口的相針對國內(nèi)的質(zhì)量比較穩(wěn)定，價(jià)格貴一點(diǎn)平攤下來亦顯不出多貴來了。

 2 半導(dǎo)體行業(yè)：半導(dǎo)體行業(yè)除了硅片的行業(yè)不消靶材以外，幾乎每一個(gè)制程都要用到濺射鍍膜機(jī)或說是每一個(gè)制程都要用來鍍膜或是水鍍或是PVD；會運(yùn)用到的靶材有：金靶/銀靶/鉑金靶材/等等 運(yùn)用靶材的機(jī)構(gòu)：長電科技，中國電子,紫光，中芯國際，華微電子，順絡(luò)電子，東晶電子，泰晶科技，富士通/士蘭微電以及各式各樣的科研所等等等等，總之是太多太多 靶材機(jī)構(gòu)：寧波江豐/有研新材/招金勵福（上市排隊(duì)中）/光陽化學(xué)（臺灣機(jī)構(gòu)，老板已然被臺灣檢方帶走了，炒期貨賠了N億，阿石創(chuàng)

3 太陽能行業(yè)：太陽能行業(yè)僅限薄膜太陽能才可用到PVD鍍膜，行業(yè)內(nèi)最大的便是漢能了；然則漢能和他的全資子機(jī)構(gòu)之間。。。。呵呵；所用的靶材：此刻已然發(fā)展到用銅銦鎵硒的技術(shù)了；靶材生產(chǎn)廠商：贛州研創(chuàng)（臺灣機(jī)構(gòu)）/深圳歐萊等等等等 4 Low-e樓宇玻璃鍍膜行業(yè)：前幾年搞大躍進(jìn)，這個(gè)行業(yè)是產(chǎn)能過剩行業(yè)，利潤最低的機(jī)構(gòu)，比很強(qiáng)的機(jī)構(gòu)有信義玻璃/南玻A/耀皮玻璃/臺玻；所用靶材：銀靶/鎳鉻靶材/AZO（陶瓷靶）/硅鋁等等 靶材廠：梭萊（美國）/安泰科技/招金勵福（再排隊(duì)）/阿石創(chuàng) 等等。

4、還有便是刀具鍍膜/外觀鍍膜/柔性鍍膜等等等等

其實(shí)咱們所能用的東西中非常多的都是要用來鍍膜的。

附：光學(xué)鍍膜技術(shù)與應(yīng)用：薄膜及其特性講解

附：真空鍍膜材料