10月15日，“中國光谷”經(jīng)過微X公眾號發(fā)布信息叫作，武漢太紫微光電科技有限機構(gòu)（以下簡叫作“太紫微機構(gòu)”）推出的T150 A光刻膠制品，已經(jīng)過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)配方全自主設(shè)計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

據(jù)介紹，太紫微機構(gòu)的這款光刻膠制品對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)叫作之為“妖膠”的國外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，經(jīng)過驗證發(fā)掘T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

眾所周知，光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過程中所必須的關(guān)鍵材料。因為日前光刻機揭發(fā)光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、 G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包含 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對應(yīng)于各揭發(fā)波長的光刻膠亦應(yīng)運而生，對應(yīng)分別為，g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

從市場占有率來看，全世界光刻膠市場重點被日本和美國廠商占據(jù)。按照 TOK 和 Fujifilm 2020年的數(shù)據(jù)表示：

g/i ：東京應(yīng)化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%，住友化學(xué)占比 15.7%；

KrF：東京應(yīng)化占比 31.4%，信越化學(xué)占比 21.9%，合成橡膠占比 20.9%，陶氏杜邦占比 10.9%；

ArF：合成橡膠（JSR）占比24.9%，信越化學(xué)占比 21.8%，住友化學(xué)占比 16.8%，東京應(yīng)化占比15.8%；

EUV：東京應(yīng)化占比51.8%，另一合成橡膠（JSR）亦有不小的份額。

雖然近年來，隨著國產(chǎn)半導(dǎo)體制造業(yè)務(wù)發(fā)展，國產(chǎn)光刻膠廠商亦取得了有些突破，但是在中高端光刻膠市場仍是相對較弱。詳細來講，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠亦是近兩年才有所突破，例如彤程新材、南大光電的ArF光刻膠都已有對外供貨。至于更高端的EUV光刻膠，因為美國的阻撓，國內(nèi)日前沒法進口EUV光刻機，因此呢國產(chǎn)EUV光刻膠的研發(fā)自然亦無從談起。

資料表示，太紫微機構(gòu)成立于2024年5月，由華中科技大學(xué)武漢光電國家科研中心團隊創(chuàng)立。團隊安身于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)開發(fā)，在電子化學(xué)品行業(yè)深耕二十余載。

企業(yè)負責(zé)人、英國皇家化學(xué)會會員、華中科技大學(xué)教授朱明強暗示：“以原材料的研發(fā)為起點，最后得到擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個起始，咱們團隊還會發(fā)展一系列應(yīng)用于區(qū)別場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內(nèi)關(guān)聯(lián)產(chǎn)業(yè)帶來更加多驚喜?！?/p>

△太紫微核心開發(fā)團隊成員（前排左一為朱明強教授）

太紫微機構(gòu)致力于半導(dǎo)體專用高端電子化學(xué)品材料的研發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導(dǎo)體制造開辟新型先進光刻制造技術(shù)，同期為材料的分析與驗證供給最全面的手段。

“無論是從國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望將來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻行業(yè)還會有非常多新技術(shù)、新企業(yè)破繭成蝶，但持有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問暗示。

編輯：芯智訊-浪客劍